场发射环境扫描电镜
·英文名称 FEI Quanta 250 FEG
··主要功能
场发射扫描电子显微镜能高效地收集样品电子显微图象、衍射花样、元素分布等有用信息,并能直接进行纳米尺寸的观察和研究,这样便可以对金属或纳米材料在原子尺寸上获得其微结构和缺陷方面的信息。
··主要技术指标
1. 分辨率:
高真空模式二次电子(SE)像:30 kV时优于1.0 nm;1 kV时优于3.0 nm
低真空模式二次电子(SE)像:30 kV时优于1.4 nm;3 kV时优于3.0 nm
环境真空模式二次电子(SE)像:30 kV时优于1.4 nm
高低真空模式背散射电子(BSE)像:30 kV下2.5 nm
2. 加速电压: 0.2kV-30KV
3. 放大倍数:14倍-100万倍
4. 电子枪:Schottky场发射电子枪, 极大束流200n A
5. 样品室:
移动范围:X≥50mm;Y≥50mm;Z≥50mm;T≥-15~+75°(手动);R=360°连续旋转
样品室尺寸: 左右>280mm
分析工作距离 10 mm
6. 检测器:
高真空模式二次电子检测器;
低真空模式二次电子检测器及环境真空下的气体二次电子检测器
背散射电子检测器
蔡司SIGMA HD
技术特点
蔡司SIGMA HD配有in-lens二次电子探测器的GEMINI 镜筒,样品室二次电子探测器、背散射电子探测器和CCD 摄像机等四种类型的探测器,样品台为五轴全自动控制,能够提供出色的分辨率、衬度和亮度,适用于样品形貌的清晰成像。具有高真空和可变压力模式,实现了分析型场发射扫描电镜的高清晰成像,并能够在低加速电压(750V-3kV)和低探针电流下对样品成像。
系统参数
1. 分辨率:1.3nm (20 kV)
2. 加速电压:0.02-30 kV
3. 探针电流4 pA-20 nA
4. 放大倍数:10-1000 000X
产品应用
产品应用扫描电镜可以进行材料的微观形貌、组织分析、材料断口分析等。