电阻/电容/传感器专用磁控溅射镀膜机 ZCK-1150电镀设备

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电阻/电容/传感器专用磁控溅射镀膜机技术参数说明

设备型号	zck-1200	zck-1400	zck-1600	zck-1800
真空室尺寸	1200×1500	1400×1950	1600×1950	1800×1950
制膜种类	多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型	直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
圆柱靶	直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶
真空室结构	立式双开门、立式单开门
真空系统	滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
充气系统	质量流量控制仪（1-4路）
极限真空	6×10－4pa（空载、净室）
抽气时间	空载大气抽至5×10－3pa小于15分钟
工件旋转方式	6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式	手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋plc
备注	真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

中频磁控溅射镀膜机可在塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材、电阻、电容、传感器专用磁控溅射镀膜机等行业。

该系列设备主要是（集）直流磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料，可利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。

我司所生产的真空设备均可根据客户要求定制!欢迎来电咨询;0758-2787178或0755-26500053（深圳办事处）

本产品的加工定制是是，品牌是振华，型号是ZCK-1150，适用范围是电阻/电容/传感器/电子产品材等行业，产品别名是磁控溅射镀膜机，电镀电源是直流电源，电镀位置是真空室镀膜，镀种是铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料，规格是见详细信息

所属分类：中国电子元件网 / 真空电容
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