高剪切核桃粉胶体磨

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（1）原料处理：选择新鲜、仁大饱满、无哈变、无病虫害、无霉变的核桃仁，去净杂质，于10%氢氧化钠溶液中煮沸30秒钟，用水冲洗去净内皮，于稀柠檬酸液中和与护色。选择粒大、色纯、成熟完全、无杂质的优质大豆，在80～90℃下烘烤6小时，去腥味。将大豆轻度粉碎，风力去皮，得到碎豆瓣。

（2）制浆：核桃和大豆以核桃:大豆:玉米=16:38:46的配比混合，加水2倍，水温50℃，浸泡3小时后，再进行磨浆。磨浆时需加入原料重8倍的水。磨好的浆用100目筛网过滤。
（3）制粉：将浆液先用核桃粉胶体磨处理，再用乳化机或者均质机在温度50～55℃、30兆帕压力下反复均质两次，得到乳状液。以10～15千帕的真空度进行浓缩，直到固形物含量达到40%以上，进行喷粉。浓缩液温度为40～60℃，泵入高位罐，进入离心盘而被喷雾干燥，进风温度150～180℃。

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     高剪切核桃粉胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

    NK2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。NK2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

NK2000系列管线式高剪切分散乳化机具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

 三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,Zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 

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