一、应用领域
石英石墨干锅太阳能硅片清洗、拉晶切片用水、硅材料清洗用水、制取电子工业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、ic芯片封装、显象管、玻壳、液晶显示器、光学、光电、热电厂、冶金、化工等
二、工艺流程
1、一级反渗透+混床(出水2---15mω.cm)
原水箱—原水泵—多介质过滤器—活性炭过滤器—软水器-保安过滤器-高压泵—反渗透主机-纯水箱—纯水泵-阴阳离子交换混床-微孔过滤器—储水罐-纯水输送泵-用水点
2、一级反渗透+edi系统(出水5---15mω.cm)
原水箱---原水泵-多介质过滤器-活性炭过滤器-软水器-保安过滤器-高压泵---反渗透主机-纯水箱—edi系统-储水罐-纯水输送泵-用水点
3、二级反渗透+edi系统(出水18mω.cm)
原水箱—原水泵-多介质过滤器-活性炭过滤器-软水器-保安过滤器-一级高压泵—一级反渗透主机-ph调节—二级级高压泵—二级反渗透—纯水箱—脱气装置—微孔过滤器-edi系统-抛光混床系统—储水罐-纯水输送泵-用水点
三、出水标准
符合美国astm标准、符合《中国电子行业超纯水国家标准》gb/t1146.1-1997
(18mω.cm、15mω.cm、10mω.cm、2mω.cm、0.5mω.cm)
四、订货须知
具体的设备处理量、出水标准、设备材质、尺寸及电器控制等,我公司将会提供给您详细的方案说明。