电镀电源 | 直流电源 | 电镀位置 | 真空室镀膜 |
镀种 | 锡丝、铟银合金丝 |
在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(锡丝、铟银合金丝)熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜(ncvm)。大功率蒸发系统,可控硅控制,重复性、稳定性高,独有镀透电极设计,配置石英晶振,可控制任何膜层厚度,拥有专利的工件架技术,转速平稳可调,产量大且良品率高。
不导电(ncvm)膜镀膜设备
设备型号 |
zhl-1200hb |
zhl-1400hb |
zhl-1600hb |
zhl-1800hb |
真空室尺寸 |
1200×1500 |
1400×1950 |
1600×1950 |
1800×1950 |
制膜种类 |
不导电锡、半透明膜、铝 |
|||
电源类型 |
电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源 |
|||
真空室结构 |
立式双开门、立式单开门、 |
|||
真空系统 |
滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统) |
|||
极限真空 |
8×10-4pa(空载、净室) |
|||
抽气时间 |
空载大气抽至5×10-2pa小于6分钟。 |
|||
工件旋转方式 |
6轴/8轴/9轴/莲花架/公自转/变频无级调速 |
|||
控制方式 |
手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+plc |
|||
备注 |
真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |