场效应管 MOS管 IRF7406 全新原装 IR F7406

场效应晶体管（field effect transistor缩写(fet)）简称场效应管。由多数载流子参与导电，也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高（10^8～10^9ω）、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点，现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。

场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的id，用以门极与沟道间的pn结形成的反偏的门极电压控制id”。更正确地说，id流经通路的宽度，即沟道截面积，它是由pn结反偏的变化，产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在vgs=0的非饱和区域，表示的过渡层的扩展因为不很

大，根据漏极-源极间所加vds的电场，源极区域的某些电子被漏极拉去，即从漏极向源极有电流id流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型，id饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡，并不是电流被切断。

在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动，在理想状态下几乎具有绝缘特性，通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场，实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近，由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生id的饱和现象。其次，vgs向负的方向变化，让vgs=vgs(off)，此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且vds的电场大部分加到过渡层上，将电子拉向漂移方向的电场，只有靠近源极的很短部分，这更使电流不能流通。

金属-氧化层-半导体-场效晶体管，简称金氧半场效晶体管（metal-oxide-semiconductor field-effect transistor, mosfet）是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管（field-effect transistor）。mosfet依照其“通道”的极性不同，可分为n-type与p-type的mosfet，通常又称为nmosfet与pmosfet，其他简称尚包括nmos fet、pmos fet、nmosfet、pmosfet等。

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