极深紫外激光（EUV）产生的种子源
更新：2014-03-11 16:06 编号：2719131 IP：183.37.34.246 浏览：113次
- 供应商
- 深圳大通激光有限公司 商铺
- 认证
- 资质核验：已通过营业执照认证入驻顺企：第12年主体名称：深圳大通激光有限公司
- 报价
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- 品牌
- ACCESS LASER
- 关键词
- CO2激光器，CO2激光器应用
- 所在地
- 深圳市南山区高新区南区科技南十路6号 深圳航天科技创新研究院大厦B座一层B101-102
- 联系电话
- 0755-88866783
- 手机
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产品详细介绍
co2激光器应用--极深紫外激光（euv）产生的种子源，全文可从深圳大通激光有限公司科研网站上下载，网址：http://www.alcky.cn/jszwg.html。
发现lpp光源产生极深紫外激光（euv）需要用co2激光器的过程：
（1）为了制造集成度更高的电路，人们在积极寻找下一代光刻(ngl)光源。目前工业界确定的下一代光刻光源是波长为13.5nm的极端远紫外(euv)光源，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸，理论上可达22nm以下。
（2）尽管目前实验型的euv曝光光刻设备使用的是低功率辉光放电等离子体（dpp）光源，但是它不能够满足大规模量产的需求。而激光等离子体（lpp）光源由于其具备高功率输出的优势Zui有希望担负起euv光刻技术量产的大任。
lpp光源产生euv（波长：13.5nm）的原理在于用激光照射在包括氙、锡或锂在内的原材料，通过激发可以得到高能电离等离子体。通过研究各种不同激光波长和被照射原材料的组合，Zui后发现co2激光与锡液体微滴靶的组合具有的转换效率。因此，一套具有实际生产价值的euv光源系统必须包括co2激光器、锡液体微滴生成器、收集光路和碎屑过滤消除装置等部分。
（2）尽管目前实验型的euv曝光光刻设备使用的是低功率辉光放电等离子体（dpp）光源，但是它不能够满足大规模量产的需求。而激光等离子体（lpp）光源由于其具备高功率输出的优势Zui有希望担负起euv光刻技术量产的大任。
lpp光源产生euv（波长：13.5nm）的原理在于用激光照射在包括氙、锡或锂在内的原材料，通过激发可以得到高能电离等离子体。通过研究各种不同激光波长和被照射原材料的组合，Zui后发现co2激光与锡液体微滴靶的组合具有的转换效率。因此，一套具有实际生产价值的euv光源系统必须包括co2激光器、锡液体微滴生成器、收集光路和碎屑过滤消除装置等部分。
co2激光器应用--极深紫外激光（euv）产生的种子源，可以用到深圳大通激光有限公司的co2激光器，详情可登录网站：http://www.alcky.cn/jszwg.html，或电话咨询：0755-88866783。
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