半导体用、医药用高纯水设备,工艺先进,产水质量稳定
更新时间:2013-04-02 08:06:33 信息编号:1965279 发布者IP:119.190.40.52 浏览:64次产品详细介绍
高纯水设备用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。
高纯水设备在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级反渗透+EDI水处理工艺,确保处理后的超纯水水质符合要求,水利用率高,运行可靠,经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
高纯水设备工艺流程:原水—原水泵—石英砂过滤—活性炭过滤—阻垢剂加药装置—精密过滤器—一级高压泵—一级反渗透系统—二级高压泵—二级反渗透系统—纯水—EDI膜块—超纯水