不导电（NCVM）膜镀膜设备

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不导电（NCVM）膜镀膜设备

详细介绍

在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（锡丝、铟银合金丝）熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,独有镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度,拥有专利的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。

不导电（NCVM）膜镀膜设备

设备型号

	ZHL-1200HB	ZHL-1400HB	ZHL-1600HB	ZHL-1800HB
真空室尺寸	1200×1500	1400×1950	1600×1950	1800×1950
制膜种类	不导电锡、半透明膜、铝
电源类型	电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源
真空室结构	立式双开门、立式单开门、
真空系统	滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
极限真空	8×10－4pa（空载、净室）
抽气时间	空载大气抽至5×10－2pa小于6分钟。
工件旋转方式	6轴/8轴/9轴/莲花架/公自转/变频无级调速
控制方式	手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC
备注	真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

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