In-line连续式磁控溅射镀膜生产线
信息编号:1474409 浏览:201次产品详细介绍
品牌 | 昆山立特纳米 | 型号 | LX1200 |
用途 | 磁控溅射PVD镀膜,氮化钛(TiN)、氮碳化钛(TiCN)、氮化锆(ZrN)、氮化铬(CrN)、氮化铝钛(TiAIN)、碳化钛(TiC)等 | 别名 | 磁控溅射镀膜机 |
用途:磁控溅射pvd镀膜,氮化钛(tin)、氮碳化钛(ticn)、氮化锆(zrn)、氮化铬(crn)、氮化铝钛(tiain)、碳化钛(tic)等
基材:不锈钢,锌合金,塑料
应用:手机外壳,mp3外壳,数码相机外壳,各种标牌的装饰改性加硬镀膜
颜色:白色,金色,银色,黑色,兰色等
基本参数:
1、真空室尺寸:1210mm(直径)×1200mm(高);
2、抽气时间速:大气到5×10-3pa≤20min (空载, 冷态,洁净);
3、Zui高烘烤温度:300℃
4、极限真空:优于1×10-3pa;
5、采用侧面对开门方式,便于工件装卸;
6、3只观察窗口,左右门上各一个,室体正前方一个;
7、2台φ400mm口径分子泵、1台zjp300型罗茨泵, 2台2x-70型机械泵抽气;
8、一套公、自转工转机构,采用下驱动方式的二维平面行星机构;自转轴20根;
9、所有驱动引入采用带水冷套磁流体密封;
10、四对磁控溅射靶平行安装且成圆周分布,靶材尺寸:910mm×120mm(长×宽);
11、4路进口质量流量计进气;
12、预溅射小车挡板,控制预溅射工艺;
13、三台30kw中频电源及一台30kw脉冲偏压电源;
14、控制系统采用触摸屏上位机(工控机)+下位机(plc)的控制形式
15、控制系统有手动和自动,全系统具有互保护, 泵阀互锁。
特点和应用:
采用真空磁控溅射,孪生阴极,中频溅射技术,并配以先进的控制系统,可以在工程塑料,玻璃和金属表面镀制单质金属膜、复合膜、电磁屏蔽膜、ito膜。生产过程全部自动,可以实现连续高效率的磁控溅射镀膜。生产线可以根据需要配置多个真空室,采用立式或卧式,每个真空室根据需要配置不同的靶材,室与室之间采用独立的真空抽气系统,可以随意调节各个真空室的气体参数,镀制不同的膜层,可以满足工业化连续生产的需要。广泛应用于玻璃、pmma、电子屏蔽,装饰,ito等各种镀膜领域。
主要组成部分:
真空室:不锈钢制造,立式或卧式,外壁通冷却水,内衬不锈钢挡板。
真空系统:分子泵系统。
溅射源:平面磁控溅射阴极,孪生靶技术,直流脉冲和中频溅射电源。
等离子轰击:射频或中频放电,对有机材料基片进行等离子改性,以增强膜层附着力。
工件烘烤:采用不锈钢管状加热器配合均热板,确保基片加热均匀性。
充气系统:气体质量流量计和压强自动控制仪。
电气控制系统:触膜屏+p l c自动控制,工艺过程控制全自动化。
水冷系统:真空室冷却和阴极冷却,有水压保护开关和水流开关
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