CVD金刚石 CVD热沉片 金刚石散热片 晶圆级金刚石(1*1cm)

更新:2022-05-09 16:40 编号:14169867 IP:222.76.205.131 浏览:35次
供应商
化合积电(厦门)半导体科技有限公司 商铺
认证
资质核验:
已通过营业执照认证
入驻顺企:
4
主体名称:
化合积电(厦门)半导体科技有限公司
组织机构代码:
91350200MA3525NR9F
报价
人民币¥3000.00元每片
金刚石热沉片
1000-2000
晶圆级金刚石
Ra<1nm
尺寸
1*1cm
关键词
金刚石热沉片
所在地
361000
手机
13859969306
联系人
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产品详细介绍

 晶圆级金刚石:

  @热导率高达2000W/m.K

  @表面粗糙度小于1nm

  @满足晶圆级应用

  @可定制化

                                                      

生长方法Growth Method MPCVD
厚度Thickness 0~500um;可定制
厚度公差Thickness tolerance +/- 20um
尺寸Size 1cm*1cm;2inch;可定制
生长面表面粗糙度Roughness of growth surface(Ra) < 1 nm Ra
FWHM (D111) 0.354
热膨胀系数Coefficient of thermal expansion (CTE) 1.3 (10-6K-1)
热导率Thermal conductivity(T.C) 1000-2000W/m.K
总厚度变化TTV < 15 μm
弯曲度Bow < 30 μm
翘曲度Warp < 40 μm

     关于企业

  化合积电(厦门)半导体科技有限公司,是一家专注于第三代(宽禁带)半导体衬底材料和基于GaN材料的电力电子、射频器件研发和生产的高科技企业。公司致力于为客户提供“高质量、低成本、大面积的产品”,通过不断的产品研发和技术创新,推动科技的发展和进步。主要产品包括:晶圆级金刚石衬底、金刚石热沉片、硅基氮化铝基板、GaN基HEMT、逆变器等。广泛应用于5G、快充、光伏、新能源汽车等领域。

  创新研发掌握核心科技

  研发实力位居全球前列,国际团队10余年技术积累,领衔建设高水平研究平台,汇聚来自全球半导体领域的科学家和工程师 ,攻克关键核心技术。

  在厦门、首尔等地建立两大研发中心,拥有近1000平方米研发基地,全球的研发设备一应俱全,作为产学研合作的模范,行业前沿科技创新,获“厦门市超宽禁带半导体材料与器件重点实验室”称号。

  自主生产匠心品质

  超3000平方米生产基地,智能制造设备确保品质,产品通过ISO9001质量管理体系认证,全方位确保客户售后无忧。

  拥有MOCVD、PVD等国际设备20多台,是国内少数拥有完整半导体工艺链的平台之一。齐全的检测设备,质量检测,确保产品品质。

  布局全球服务网络

  立足厦门,构建全球销售服务总部和大型生产基地;建立上海、深圳两个办事处,高效便捷服务,赋能经济核心区;创设厦门、首尔两大研发中心支持全球客户技术和产品开发。

  我们坚持以持续的技术创新为客户创造价值,秉持为客户提供“高质量、低成本、大面积的产品”理念,不断立足前沿,持续突破,工艺革新方向,在5G、快充、光伏、新能源汽车等领域,得到了行业头部重量级客户认可。

相关产品:金刚石热沉片
所属分类:中国电子元件网 / 半导体材料
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