X62 S1282×485-D-S-1型抛光机

 一．设备用途

该设备主要适用于4-6′蓝宝石、硅片、锗片、铌酸锂、钽酸锂等片状硬脆材料的单面高精度抛光加工。

二．设备特点

1.主抛光盘及四组抛光头均采用变频无级调速，并能方便设置四组抛光头的同步转速，使抛光过程的相对速度协调一致；

2.抛光头用电气比例阀调控实现了自动压力控制，可大区段自动加压。研磨过程时间、压力转换可按照不同的研磨工艺而设定，极大地满足了不同研磨工艺对设备的要求；

3.主抛盘和上抛头内均设冷却水循环系统，采用非接触式主盘温度检测装置，可实现温度的控制，采用plc及触摸屏控制方式，可存储多套工艺参数，显示丰富，操作方便。整机配套，并进行实时显示；

4.选用世界知名厂商的外购元器件配套，保证了设备的运转精度和使用可靠性，其可靠性及精度指标完全满足了蓝宝石单面抛光的需求。

三、设备主要技术参数

1.主抛光盘直径                    φ1282mm   

2.抛光盘直径                      φ485mm

3.主抛光盘转速                     0～65rpm

4.抛光头转速                       0～65rpm

5.抛光头数量                      4

6.主气缸直径                     φ125mm

7．抛光头升降行程                 250mm

8.Zui大设定压力                    500kgf

9.Zui小设定压力                    30kgf

10.主抛光盘驱动电机                 22kw 

11.抛光头驱动电机                   0.75kw×4

12.设备外形尺寸（长×宽×高）       3050 mm×1740 mm×2600 mm

13.设备质量                        约6500kg

四．设备安装使用环境

设备应安装在地面平坦，远离振动源，无灰尘烟雾污染的场所。

1．工作温度：                  15℃-25℃

2．气源：                      0.4-0.6mpa（干燥无油）   

3．相对湿度                    ≦80%

4．电源：                      ac380v，50hz (三相五线制)

5.冷却水 

水压：2kgf/cm2 以下

水量：30l/min

温度：7～12℃