重庆绵阳贵阳G-26型光刻机

主要技术参数：

1、适用于φ6"、φ5"、φ4"基片，基片厚度0～5mm均可。

2、采用多点光源曝光头，Zui大输出光束≥φ160mm；光束不均匀性≤±7%，（φ150mm范围内）。

3、光源采用350w直流汞灯。

4、版、片对准精度±0.5μm。

5、采用片动、版不动的对准方式以及三点找平机构。

6、扫描观察范围：±15mm。

7、采用双目视场显微镜，放大倍数50x～375x。也可采用双ccd加液晶监视器来显示，放大倍数30x～189x或67.5x～420x。

8、采用时间继电器（可从0.1秒～999.9秒预设）控制曝光头的气动快门，以实现曝光时间的自动控制。

9、能实现硬接触曝光、软接触曝光及微力接触曝光。

10、电控采用plc控制，各主要元器件（如电磁阀）均采用进口品牌件。